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半导体行业的灵魂,中国启动代替计划,芯片制造关键材料实现量产
发布时间:2020-07-18 17:57 来源:互联网 点击次数:

今天跟大家聊一聊:中国作为芯片使用大国,我们在研究光刻机上刻不容缓,他是半导体行业的灵魂,而中国在光刻机精密部件上再次迎来好消息,究竟是一项什么技术呢?本期我们就来一起了解一下。

目前为止我们还没有自主生产高端光刻机的能力,目前所使用的光刻机也还是从国外进口的一些淘汰技术,因此研发国产光刻机,成为了目前在半导体领域的重中之重。而在光刻机制造芯片所需要的尖端材料上,目前我们已经有了重大的突破。

而作为制造芯片的关键材料光刻胶,它也是芯片制造过程中不可或缺的,能否自主生产光刻胶,这也关系到我们在进口光刻机之后,是否有能力自主生产芯片的关键,目前国家也筹集了3387亿元资金用于半导体领域的研发,集结了一大批的优秀科研人员,而要想打造完整的半导体生态链,光刻胶就是其中缺一不可的一环,虽然目前我们还没有能力生产高端的光刻机,你还没有办法布局7纳米以下芯片的制造工艺,但是凡事都要提前准备,这样才能弥补我们在半导体领域的劣势。

在此前光刻胶我们只能依赖进口,也一直都被美日韩垄断,由于这项技术对技术精度要求是比较高的,所以也导致很多国家始终没有一点头绪,要想在半导体领域有所建树,我们必须要拿下这一个关键环节,光刻胶是一种敏感感光液体,在芯片硅板的印刻上起了至关重要的作用,他决定着最终芯片的性能以及成品率,所以在此前我们都是宁缺毋滥,花高价从国外进口这种材料。

目前我们在光刻机以及芯片的自主研发中,已经加大了投资,目标是实现70%的芯片国产化,而在接到任务之后,各个企业在研发光刻胶上也下足了功夫,而其中苏州瑞红公司率先取得了突破,实现了第二代光刻胶的量产,而随后南大光电研发的第四代光刻机ArF光刻胶,也取得了突破性的进展,这也将打破我们缺乏高质量光刻胶的局面。

而其中最让人感到意外的是,北京科华对极紫外光刻机的光刻胶研发项目已经通过验收。目前未实现国产的也只有第五代光刻机——EUV极紫外光刻机的光刻胶,其主要原因也就在于目前我们并没有此类的光刻机,此前花高价购买的也并未收到出货的消息,大部分我们都已经有能力实现国产化,对于未来的规划科研人员也都是信心满满。

随着这项技术的攻破,我们半导体领域也更加的有信心,打破了发达国家对于光刻胶的多年封锁,目前国产的光刻胶已经开始出货了,国内芯片巨头长江存储以及中芯国际等龙头芯片企业都采用了国产光刻胶,也给我们在半导体领域吃下了一剂定心丸。

有了这样的经验,科研人员也就更加的有信心研发出更多的高端材料,相信在国家以及科研人员的不断努力下,中国在半导体领域必将大有所为,他们不带我们走,到时候我们跑的时候他们追都追不上,我们已经缔造了太多这样的例子了。

而目前我们还是要把重心放在对光刻机的研发上,只有突破了这一项技术,我们才不会在半导体领域被牵着鼻子走,虽然目前我们也有能力生产出光刻机,但是在精确度上还是差强人意,但在这个过程中也并非一无所获,你觉得我们还要花多长的时间,才能生产出高端的光刻机呢?对此大家有什么看法呢?欢迎留言探讨。

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